1樓：墨汁諾
一、含義不同：
電子衍射與x射線衍射一樣，遵從衍射產生的必然條件（布拉格方程+反射定律，衍射向量方程或厄瓦爾德**等）和系統消光規律。但電子波是物質波，按入射電子能量的大小，電子衍射可分為高能電子衍射、低能電子衍射和反射式高能電子衍射，而x射線衍射是x射線照射樣品。
二、形成不同：
多晶金屬材料經機械加工、熱處理等工藝，往往使晶粒的某些晶向或晶面與材料加工方向趨於一致。這種晶體取向稱為擇優取向或織構，它引起x射線衍射花樣發生變化，使得連續均勻的衍射環成不連續、強度加強的斑點或弧段，而另一些晶面的衍射線強度變小甚至消失。
測定織構的方法有多種中，但x射線方法具有準確、全面等特點，所以成為研究織構最主要的方法。 在x射線衍射法中，一般用「極圖」來表達織構。
原理當一束單色x射線入射到晶體時，由於晶體是由原子規則排列成的晶胞組成，這些規則排列的原子間距離與入射x射線波長有相同數量級，故由不同原子散射的x射線相互干涉，在某些特殊方向上產生強x射線衍射，衍射線在空間分佈的方位和強度，與晶體結構密切相關。這就是x射線衍射的基本原理。
2樓：水果和沙拉
簡短一點的答案，相同點是兩者都是可以把晶體看做一個三維的光柵，對不同位置的原子散射的波進行疊加求和，反映的晶格的對稱性資訊；不同點是電子衍射是電子受到在空間上週期性變化勢場的散射，電子與樣品的相互作用往往比x射線衍射與樣品作用要強烈一些，往往不止發生一次散射，即要考慮動力學效應（多次散射），x射線是與核外電子發生作用，與核外的電子分佈情況相關。
實用角度的答案，在確定晶體對稱性上，通常是用x射線來定的，因為動力學效應很弱，不會出現本來消光的斑點位置因為多次散射的原因又出現亮斑的情況，因此便於分析，另外很重要的一個原因是x射線的制樣更加容易，不用像透射電鏡樣品那樣糾結，當然如果只是對樣品的表面晶體結構感興趣，可以做leed。但是對於做奈米材料的人來說，電子衍射是必須的，因為x射線的束斑聚不了那麼小,題外話，利用波帶片（zone plate），x射線的解析度的確可以進入奈米尺度，但是對於做奈米材料的人來說，電子衍射還是更普遍一些,如下是在金屬玻璃中做奈米束衍射，最小的照射空間就是電子束斑的半高寬，可以看到隨著照明區域的增大，本來分離的衍射斑點變成了多晶環，這正是金屬玻璃的特徵
3樓：當年雲霧裡
電子衍射與x射線衍射一樣,遵從衍射產生的必然條件（布拉格方程+反射定律,衍射向量方程或厄瓦爾德**等）和系統消光規律.但電子波是物質波,按入射電子能量的大小,電子衍射可分為高能電子衍射、低能電子衍射和反射式高能電子衍射,而x射線衍射是x射線照射樣品.
tem電子衍射斑點是怎樣形成的
用心感悟回答老師 tem電子衍射斑點形成的過程如下 當電子波 具有一定能量的電子 落到晶體上時，被晶體中原子散射，各散射電子波之間產生互相干涉現象。晶體中每個原子均對電子進行散射，使電子改變其方向和波長。在散射過程中部分電子與原子有能量交換作用，電子的波長髮生變化，此時稱非彈性散射 若無能量交換作用...
收集與分析，資料收集與分析
首先，我要說明這裡的指導並非 常規意義的指導，我這裡說的指導是到底應該如何寫 應該還是很抽象，不過看完就知道了 迄今為止，我大約也幫忙做了能有上千份的學生 資料分析部分，包括一部分的整篇 寫作。因為我是做市場研究與資料分析的，擅長的主要工具是spss，不敢說百分百精通spss，但是應付個 十應該是足...
單縫衍射實驗中明暗條紋的間距與哪些因素有關
單縫衍射實驗中明暗條紋的間距與縫的寬度 縫到光屏的距離和光的波長有關。1 單縫衍射實驗中明暗條紋的間距與波長成正比，與縫的寬度 單縫到光屏的距離成反比。2 單縫衍射實驗中波長越大則明暗條紋的間距越大 縫的寬度越小 縫到光屏的距離越小則明暗條紋的間距越大。3 單縫衍射是光在傳播過程中遇到障礙物，光波會...